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ASML 成半導體軍備賽最大贏家

2019-11-04 13:12:17 來源:EETOP

臺積電在10 月17 日召開的第3 季法說會上,宣布上調資本支出40 億美元,由原先的100~110 億美元,大幅上調至140~150 億美元,創下臺積電單年資本支出的新高紀錄。


而早在10 月7 日,臺積電搶在法說會前所發布的一則新聞稿,已悄悄凸顯出當前半導體大廠EUV(極紫外光刻)軍備競賽的熱度。新聞稿中宣布,導入EUV 光刻機技術的7 nm增強版(N7+)制程,已于第2 季開始量產。臺積電宣稱,7 nm制程量產已超過1 年的情況下,N7+良率與7 nm已相當接近。臺積電此舉被外界解讀為,是要向搶先量產EUV 但良率似乎不如預期的三星「示威」。
 

在法說會上宣布新增的40 億美元資本支出,就包含采購多臺單價逾1 億美元的EUV 光刻機設備。臺積電企業訊息處資深處長孫又文向《財訊》證實,「除了7 nm之外,所有先進節點如6 nm、5nm等,都將采用EUV 作為制程的一部分。但浸潤式光刻機仍然是未來所有先進制程節點的重要工具。」盡管臺積電在7nm以下的更先進納米制程中,EUV 與浸潤式光刻機技術將并重,但未來勢必對于EUV 機臺采購需求看漲。
 

波長新里程 突破摩爾定律
 

巧合的是,就在10 月15 日,全球半導體光刻設備龍頭ASML于歐洲與美國那斯達克掛牌的股票,股價分別以243.2 歐元與267.54美元,雙雙創下歷史新高紀錄,今年以來的漲幅也分別高達逾76% 和71%。
 

為何這個來自荷蘭的半導體設備大廠股價會漲翻天?答案就是:由ASML獨家提供的EUV 光刻機技術,這正是臺積電為持續維持技術領先,大力加碼投資的新設備。
 

過去20 年,全球半導體廠商都仰賴當時最先進的浸潤式光刻機機臺,采用193 nm波長的光刻出電路圖案;然而,隨著芯片微縮愈來愈精細,浸潤式光刻機技術已無法應付,導致摩爾定律恐難以再延續。因此臺積電英特爾、三星等半導體大廠都引頸期盼著,ASML展開研發的波長僅有13.5 nm的EUV 光刻機機臺,可以突破浸潤式光刻機機臺在半導體制程的技術瓶頸。
 

然而,EUV 光刻機機臺的研發難度更高,研發費用也持續升高,讓ASML愈來愈吃不消,原本應該在2005 年就該量產,進度卻一再延宕。為加快EUV 研發進度,2012 年,英特爾臺積電、三星展開一項創舉—向他們的設備供應商ASML投入了大量資金。
 

當時,3 大巨頭總共投資高達38.5 億歐元,取得約23% 股份,其中英特爾擁有15%、三星取得3%、臺積電則有約5% 的股份。英特爾還額外投資ASML的后續研發計劃33 億美元;三星也為研發計劃投入了2.76億歐元。
 

經過漫長研發,如今ASML是全球唯一可量產EUV 光刻機設備的大廠,無論三星、臺積電英特爾、中芯國際等半導體大廠,全都要靠ASML生產的EUV 光刻機設備,才能在先進納米制程中導入EUV 光刻機技術。
 

隨著三星、臺積電EUV 制程相繼成功投產,英特爾也在加速EUV 制程進展,未來還有更多中國半導體大廠也將在EUV 制程摩拳擦掌,一場世界級的EUV 軍備競賽已如火如荼開打,角色如同「軍火商」的ASML自然是最大贏家。
 

果然,就在10 月16 日,艾司摩爾的第3 季法說會上,總裁暨執行長PeterWennink揭露令外界為之一亮的消息,「我們在第3 季完成7臺EUV 出貨,其中3 臺是NXE:3400C(產能更大的最新型號)。同時接到來自邏輯與存儲器客戶的23 臺EUV 新訂單,不僅創下單季最高訂單金額紀錄,達51.11億歐元,也證實邏輯和存儲芯片客戶均積極將EUV 光刻機技術導入芯片量產。總結來說,ASML對于2019 年的整體營收目標維持不變,今年對于ASML來說仍是成長的1 年。」
 

訂單紛至 第4 季毛利驚人
 

展望第4 季,Peter Wennink仍深具信心地表示,預計第4 季銷售凈額將達約39 億歐元,這將創下歷史新高。此外,第4 季毛利率將高達48%~49% 之間,大大高于第3 季度的43.7%。利潤預期將會提高的主因來自于EUV 光刻機最新型號機臺NXE:3400C,具備更高的ASP(平均銷售價格)。
 

臺積電表示:「鑒于明年5G 部署的前景更加樂觀,在過去的數個月中,對7 nm與5 nm的需求已顯著增加,」因此,臺積電決定將2019 年全年的資本支出增加40億美元,以滿足不斷增長的需求。「在新增的40 億美元資本支出中,約15 億美元用于7 nm產能,25 億美元用于5 nm產能。」
 

10 月16 日,摩根大通出具一份報告,給予ASML的評價是優于大盤,并訂定年底前目標價為240 歐元,此一目標價格是由于預估2025 年每股盈余將達18歐元,本益比13 倍,「我們提高了倍數,以反映出EUV 在市場滲透率上有更好的能見度。」若觀察近期艾司摩爾的股價表現,可發現此一論點也頗獲市場認同。
 

若以平均每兩年推出一個先進納米制程估算,以目前可預知的7 nm、6 nm、5 nm、3 nm、2 nm制程,憑借著EUV 光刻機機臺,未來ASML至少有10年的好光景。特別是,隨著半導體大廠軍備競賽打得更加激烈,ASML身為全球獨家EUV 設備供應商,也將更展現出贏者全拿的氣勢。
 


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